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產(chǎn)品特征：

? 異常衍射波前誤差

? 全孔徑均勻性高

? 堅固的蝕刻結(jié)構(gòu)

? 優(yōu)秀的特征定位精度

? 可實現(xiàn)兩個維度的空間變化周期

產(chǎn)品應用 ：

?用于定位和計量的超高精度標尺，te別是在需要很高線性和精度的情況下

? 位移測量干涉儀（DMI）的替代品

規(guī)格參數(shù)

二維光柵是定位和計量應用的理想選擇，這些應用需要在長距離（~毫米或更大）內(nèi)具有很高的精度（~納米或更?。＿@些要求存在于半導體、精密制造和生物成像領(lǐng)域，僅舉幾例。位移測量干涉儀（DMI）通常可以提供一種解決方案，但也可能帶來昂貴甚至不切實際的系統(tǒng)限制。基于光柵的干涉儀提供了一種更簡單、更穩(wěn)健的解決方案。

2D光柵是通過正交疊加兩個一維（1D）結(jié)構(gòu)而產(chǎn)生的。結(jié)果是光柵特征的矩形陣列，其凈衍射效率等于兩個1D效率的乘積。憑借對光柵特征放置精度的優(yōu)秀控制，PGL的2D光柵為要求苛刻的定位應用提供了行業(yè)優(yōu)秀的解決方案。

產(chǎn)品詳情：

PGL 2D光柵的高精度始于納米尺，該納米尺基于麻省理工學院開發(fā)的專有SBIL（掃描束干涉光刻）技術(shù)。Nanoruler包括一個精密的空氣軸承XY載物臺，該載物臺帶有安裝在主動隔振系統(tǒng)上的雙軸數(shù)字萬用表，并裝在一個環(huán)境外殼中，該外殼將溫度控制在±0.01°C。它在任何方向上掃描一小束條紋，這些條紋通過外差相位參考干涉術(shù)在大基板上主動穩(wěn)定，并實時變化條紋頻率和方向。

平均方法和出色的劑量控制確保了整個光柵和零件之間的周期和特征形狀的一致性——周期重復性已被證明超過10 ppb！全息光柵寫入系統(tǒng)中發(fā)現(xiàn)的系統(tǒng)性缺陷幾乎被消除。SBIL甚至允許對基板中的波前誤差和其他系統(tǒng)級缺陷進行可編程校正。

這些特征，再加上對基板尺寸缺乏基本限制，意味著PGL的SBIL工藝是大型2D光柵的理想解決方案。