鍍金衍射光柵.pdf(?)
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衍射效率：典型.93– 96% 衍射波前誤差：< λ / 4(大小相關) 激光損傷閾值：15 J/cm2 @1054 nm； 10 ns 帶寬：典型. 10's to > 100 nm
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產(chǎn)品特征：
? 優(yōu)秀衍射效率
? 特殊衍射波前誤差
? 全光圈均勻度高
? 高激光損傷閾值
? 曲線可以用于聚焦應用
產(chǎn)品應用 ：
? 脈沖壓縮，尤其適用于緊湊型商用飛秒激光器
? 超高平均功率激光器的光譜光束組合（SBC）
? 用于科學激光器和工業(yè)退火應用的高強度球形和圓柱形聚焦元件
規(guī)格參數(shù)
參數(shù) | 詳情 |
衍射效率 | 典型.93– 96% |
衍射波前誤差 | < λ / 4(大小相關) |
激光損傷閾值 | 15 J/cm2 @1054 nm, 10 ns |
帶寬 | 典型. 10’s to > 100 nm |
透射光柵需要非常深的凹槽深度才能實現(xiàn)所需數(shù)量級的高衍射效率，通常比MLD和金光柵深3-10倍。PGL開發(fā)了一種基于反應離子蝕刻（RIE）的深蝕刻工藝，能夠直接在熔融石英基板上獲得>2.5μm的凹槽深度。該工藝的高均勻性，加上PGL納米尺光柵寫入技術(shù)中實現(xiàn)的掃描束干涉光刻的精度，導致了優(yōu)秀的衍射波前誤差性能。
優(yōu)異的抗反射（AR）涂層對于透射光柵也至關重要。PGL在薄膜涂層方面的經(jīng)驗使我們能夠為每種透射光柵設計生產(chǎn)自己的優(yōu)化AR涂層。由此產(chǎn)生的光柵非常適合從激光脈沖壓縮器到光譜儀的緊湊型商業(yè)系統(tǒng)。
產(chǎn)品詳情：
PGL的光柵曝光和蝕刻工藝產(chǎn)生十分光滑、均勻和深的光柵槽，可忽略衍射波前畸變，具有高均勻性和衍射效率。
下圖顯示了針對800nm優(yōu)化的1200l/mm光柵的理論衍射效率與輸入波長和入射角的關系。實際光柵的DE通常比理論低1-2%。
聚焦光柵
除了PGL的SBIL光柵寫入技術(shù)用于標準光柵的許多優(yōu)點——高衍射效率、一致的占空比和零件之間10 ppb的周期重復性——納米尺還可以很容易地產(chǎn)生彎曲的光柵線。因此，我們可以生產(chǎn)球形和圓柱形聚焦光柵。
這種新的不一樣能力的應用范圍從超高強度激光裝置的簡化（減少元件數(shù)量）到退火系統(tǒng)準分子激光器的圓柱形聚焦，再到基于激光的自由空間通信的透鏡。
| 名稱 | 型號貨號 | 描述 | 價格 |
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營業(yè)執(zhí)照