20nm 臺(tái)式X射線源 脈寬 7ns.pdf
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工作波長(zhǎng) 20nm；脈寬 7 ns；脈沖能量（Xe） 3.5 mJ (4π sr； 2% BW)；轉(zhuǎn)換效率 0.45% ；等離子形狀 ? ~ 300 μm；重復(fù)頻率 10 Hz
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| 貨號(hào) : B80020087 | |
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激光源產(chǎn)生的紫外/軟X射線輻射是Tingen在激光實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)的，由高脈沖能量YAG激光器（1064nm，800mJ，7ns）聚焦于氣體電離產(chǎn)生。不同的目標(biāo)氣體對(duì)應(yīng)不同的能譜分布。
參數(shù) | 單位 | 指標(biāo) |
產(chǎn)品編號(hào) | EUV-B-XRAY | |
工作波長(zhǎng) | nm | 20nm |
脈寬 | ns | 7 |
脈沖能量（Xe） | mJ | 3.5(4π sr, 2% BW) |
轉(zhuǎn)換效率 | % | 0.45 |
等離子形狀 | NA | ? ~ 300 μm |
重復(fù)頻率 | Hz | 10 |
測(cè)試數(shù)據(jù)展示：
● 低殘留
● 高EUV能量（3.5 MJ）
● z低耗氣量（氣體脈沖持續(xù)時(shí)間：<1 ms）
● 簡(jiǎn)單目標(biāo)氣體交換
● 桌面系統(tǒng)
● 計(jì)量：反射測(cè)量、吸收
● 光譜學(xué)（nexafs）
● 光學(xué)/傳感器測(cè)試
● EUV損壞調(diào)查
● 材料相互作用基礎(chǔ)研究
● 水窗顯微鏡（λ=2..4納米）
營(yíng)業(yè)執(zhí)照